隨著塑料製品日溢廣泛（fàn）的應用（yòng），如日化（huà）用品和飲料包裝容器等，外觀的需（xū）要往往要求塑料（liào）模具型腔的表麵達到鏡麵拋光的程度。而生產光學鏡片、鐳射唱片等模具對表（biǎo）麵粗糙度要求極高，因而對拋光（guāng）性的要（yào）求也極（jí）高。

拋光不（bú）僅增（zēng）加工件的美觀，而（ér）且能（néng）夠改善材料表麵的耐腐蝕（shí）性、耐磨性，還可以使模具擁有其它優點，如使（shǐ）塑料製品易於脫模，減（jiǎn）少生產注塑周期等。因而拋光在塑料模具（jù）製作過程中是很重要的一道工序（xù）。

目前常用的拋光方法有（yǒu）以下幾種：

1.1 機械拋光

機械拋光是*切削、材料表麵塑性變形去掉（diào）被拋光（guāng）後的凸部而得到平（píng）滑麵的拋光方法，一般使用（yòng）油石（shí）條、羊毛輪（lún）、砂紙等，以手工操作（zuò）為主，特殊（shū）零件如回轉（zhuǎn）體（tǐ）表麵，可使用轉台等輔助工具，表麵質量 要求高的（de）可采用超（chāo）精研拋的方法。

超精研拋是采用特製的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊（jǐn）壓在工件（jiàn）被加工表麵上，作高速旋轉運動。利用該（gāi）技術可以（yǐ）達到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是各種拋光方法（fǎ）中最高的。光（guāng）學鏡片模具常采用（yòng）這種方（fāng）法。

1.2 化（huà）學拋光

化學拋光是讓（ràng）材料在化學介質中表（biǎo）麵微觀凸出的部（bù）分較凹部分優先溶（róng）解，從而得到平滑麵。這種方法的主要優（yōu）點是不（bú）需複雜設備，可以（yǐ）拋（pāo）光形狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的核心問（wèn）題是拋光液的（de）配製。化學拋光得（dé）到的表麵粗糙度一般為數10μm。

1.3 電解拋光

電解拋（pāo）光（guāng）基本原理（lǐ）與化學拋光相同，即*選擇性的溶解材料表麵微小凸出部分，使表麵光滑。與化學拋（pāo）光相比，可以消除陰極反應的影響，效果較好（hǎo）。電化學拋（pāo）光過程分為兩步：

（1）宏觀整平 溶解產物向電解液中擴散，材料表麵幾何粗糙下降，Ra＞1μm。

（2）微光平整 陽極極化，表麵光（guāng）亮（liàng）度提高，Ra＜1μm。

1.4 超聲波拋光

將工件（jiàn）放入磨料懸浮（fú）液中並一起置於（yú）超聲波場中，依*超聲波的振蕩作（zuò）用，使磨料在（zài）工件表麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小，不會引起工（gōng）件變（biàn）形，但工裝製作和安裝較困難。超聲波加工可以與（yǔ）化學或電（diàn）化學方法結合。在溶液腐蝕（shí）、電解的基礎上，再（zài）施加（jiā）超聲波振動攪拌溶液，使工件表麵溶（róng）解（jiě）產物脫離，表麵附近的腐蝕或電解質均勻；超聲波在液體中的空化（huà）作用還（hái）能夠抑製腐蝕過程，利於（yú）表麵光亮化

1.5 流體拋光

流體拋光是依*高速（sù）流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵（miàn）達到（dào）拋光的目的。常用方法有：磨料（liào）噴射加工、液體噴（pēn）射加工、流體動力研（yán）磨等。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨（mó）粒的液體介質高（gāo）速往複流過工（gōng）件（jiàn）表麵（miàn）。介質主要采用在較低壓力下流過性（xìng）好的（de）特殊化合物（聚合物狀物質）並摻上磨料（liào）製成，磨料可采用碳化矽（guī）粉末。

1.6 磁研磨拋光

磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下（xià）形成磨料刷，對工件磨削加工。這（zhè）種方法加工效率高，質量好，加工條件容易控製，工作條件好（hǎo）。采用合適的磨料，表麵粗糙度可以達到Ra0.1μm。

在塑料模具加工中所說的拋光與其（qí）他行業中所要求的表（biǎo）麵拋光有很大的不同，嚴格來（lái）說，模具的拋光應該稱為鏡麵加工。它不（bú）僅對拋光（guāng）本身有（yǒu）很高的要（yào）求並且對表麵平整度、光滑度以及幾（jǐ）何精確度也有很高的標準。表麵拋光一般隻要求獲得光亮的表（biǎo）麵即（jí）可。

鏡麵加工的標準分為四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於電解拋光、流體（tǐ）拋光等方法很難精確控製零件的幾（jǐ）何精（jīng）確度，而（ér）化學拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光（guāng）等方（fāng）法的表麵（miàn）質量又達不（bú）到要求，所以精（jīng）密模具的鏡麵加工還是以機（jī）械拋（pāo）光為主。

機械拋光（guāng）基本程序（xù）

要想獲得高質量的拋光效果（guǒ），最重要的是要具備有高質量的油石、砂紙和（hé）鑽石研磨膏等（děng）拋（pāo）光工具和輔助（zhù）品。而拋光（guāng）程序的選擇取決於前期加（jiā）工後的表麵狀況，如機械（xiè）加工、電火花（huā）加工，磨加工等等。機械拋光的一般過程（chéng）如下：

1、粗拋

經銑、電火花（huā）、磨等工藝後的表麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉表麵拋光機或超聲波研（yán）磨機進行拋（pāo）光。常用的方法有利用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電火花層。然後是（shì）手工油石研磨，條狀油石加煤（méi）油作為潤（rùn）滑劑或冷卻劑。一般的使（shǐ）用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造（zào）商為了節約時間而選擇從#400開始。

2、半精拋

半（bàn）精拋（pāo）主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數依次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際（jì）上#1500砂紙隻用適於淬硬的模具鋼（52HRC以上），而不（bú）適用於預硬鋼（gāng），因（yīn）為這樣（yàng）可能會導致預（yù）硬鋼件（jiàn）表麵燒傷。

3、精拋

精拋主要使用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽（zuàn）石研磨粉或研磨膏（gāo）進行研磨的（de）話，則通常的（de）研磨順序（xù）是9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研磨膏和拋光布輪可用來去（qù）除（chú）#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕。接著（zhe）用（yòng）粘氈和鑽石研磨膏進行拋（pāo）光，順序為1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。

精度要求在（zài）1μm以上（包括1μm）的拋光工藝在模具加工（gōng）車間中（zhōng）一個清潔的拋光室內即可進行。若進行（háng）更加精密的拋光則必需一個絕對潔淨的空間。灰塵、煙（yān）霧，頭皮屑和（hé）口水沫都有可能報廢（fèi）數個小時工作後得到的（de）高精密拋光表麵。

機械拋光中要注意的問題

用砂紙拋光應注意以下幾點：

1、用砂（shā）紙拋光需要利（lì）用軟的木棒或竹棒。在拋光圓麵（miàn）或球麵時，使用軟木棒可更好的配（pèi）合圓（yuán）麵和球麵的弧度。而較硬（yìng）的木條像（xiàng）櫻（yīng）桃木，則更適（shì）用於平整表麵的拋光（guāng）。修整木條的末端（duān）使其能與鋼件（jiàn）表麵形狀保持吻合，這樣可以避免（miǎn）木條（或竹（zhú）條）的銳角接觸鋼件表麵而造成較深的（de）劃痕。

2、當換用（yòng）不同型號的砂紙時，拋光方向（xiàng）應變換45°~ 90°，這樣前一種型號（hào）砂（shā）紙拋光後留下的（de）條紋陰影即（jí）可分辨出來。在換不同型號砂紙之前（qián），必須用100％純棉花沾取（qǔ）酒精之類的清潔液對拋光表麵進行仔細的擦拭，因（yīn）為一顆很小的沙礫留在表麵都會毀壞接下去的整個拋光工作。從砂紙拋光換成鑽石研磨膏拋光時，這個清潔過程同樣（yàng）重要。在拋光繼續進行之前，所有顆粒和煤油都必須被完全清潔幹淨。

3、為（wéi）了避免擦傷和燒傷工件表麵，在用（yòng）#1200和#1500砂紙（zhǐ）進行拋光時必（bì）須特別小心。因而有必要（yào）加載一個輕載荷以及采用兩步拋光法（fǎ）對表麵進（jìn）行拋（pāo）光。用（yòng）每一種（zhǒng）型號的砂紙進行拋光時都應沿兩個不（bú）同方向進行兩次拋光，兩個方向之間每次轉動45°~ 90°。

鑽石研磨拋光應注意以下（xià）幾點：

1、這種拋光（guāng）必須盡量在較輕的（de）壓力下進（jìn）行特別是拋光預硬鋼件和用細（xì）研磨膏拋光時。在用#8000研磨膏拋光時，常用載荷為100~200g/cm2，但要保持此載荷的精準度很難做到。

為了更容（róng）易（yì）做到這一點，可以在木條上做一個薄且窄的手柄，比如（rú）加一銅片；或者在竹條上切去（qù）一部分而使其更加柔軟（ruǎn）。這（zhè）樣可以幫（bāng）助控製拋（pāo）光壓（yā）力，以確保模具表麵壓力不會過高。

2、當使用鑽石研磨拋光時，不僅是工作表麵要求潔淨，工作者的雙手也必須仔細（xì）清潔。

3、每次拋光時間（jiān）不（bú）應（yīng）過長，時間越短（duǎn），效果越好。如果拋光過程進行得過長將會造成“橘皮（pí）”和“點（diǎn）蝕”。

4、為獲得高質量的拋光效果，容易發熱（rè）的拋光方法和工具都應避免。比如：拋光輪拋光，拋光輪產生的熱量會很容易造成“橘皮”。

5、當拋光過程停止時，保證工（gōng）件表麵潔（jié）淨和仔（zǎi）細去除所有研磨劑和潤滑劑非常重要，隨後（hòu）應在表麵噴淋一層模（mó）具防鏽塗層。

由於機械拋（pāo）光主要還是*人（rén）工完成，所以拋光技術目前還是影響拋光（guāng）質量的主要原因。除此（cǐ）之外，還與模具材料、拋光前的（de）表麵狀況、熱處（chù）理工藝等有關。優（yōu）質的鋼材是獲得良好拋光（guāng）質量的前提條件，如果鋼材表麵硬度不均或特性上有差（chà）異，往往會產生拋光困難。鋼材中的各種夾（jiá）雜物和氣孔（kǒng）都不利於拋（pāo）光。

不同硬度對拋光工藝的影響

硬度增高使研磨的困（kùn）難增大，但拋（pāo）光後的粗糙度（dù）減小。由（yóu）於硬度的增（zēng）高，要達到較低的粗糙度所需（xū）的拋光時間相應增長。同時硬度增高，拋光過度的（de）可能性相應減少。

工（gōng）件表麵狀況對拋光工藝的影響

鋼材在切削機械加工的破碎過程中，表層會因熱（rè）量、內應力或其他因素而損壞，切（qiē）削參數不當會影響拋光效果。電火花加工後的表麵比普通（tōng）機械（xiè）加工或熱處（chù）理後的表麵更難研磨，因此電火花加工結束前應采（cǎi）用精規準電火花修（xiū）整，否則表麵會形（xíng）成硬化薄層。

如果電火花精修規準選擇不當，熱影響層（céng）的深（shēn）度最大可達0.4mm。硬化薄層的硬度比基體硬度高，必須（xū）去（qù）除。因此最好增加一道粗磨加工，徹底清除損壞（huài）表麵層，構（gòu）成一片平均粗糙的金（jīn）屬麵，為拋光加工提供一個良好基礎。

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