塑料成型工藝中描述的拋光與其他行業所需（xū）的表（biǎo）麵拋光有很大不同，嚴格來說（shuō），模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它不僅對拋光

本身有很高的要求，而且對（duì）表麵平（píng）整度、的平滑度和幾何精度也有很（hěn）高的標（biāo）準。表麵拋光（guāng）通常僅需要光澤表麵。鏡像處理標（biāo）準

分為四個級別。

　　對（duì）於（yú）電解拋光、流體拋光的過程中，它是難（nán）以準確地控製各部分的幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋（pāo）光、磁性拋光的、表麵質量不是（shì）必需的，精密模具主要（yào）是基於機械拋（pāo）光。 。

　　1、半精細拋光主要使用砂紙實驗室和（hé）煤油協會。

　　2、精密拋（pāo）光主要製作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是（shì）在殼體＃1200和砂紙（zhǐ）（8000）的＃1500離開頭發的痕跡，拋光布為9um的金剛石研磨膏你可以使用方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至（zhì）1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或更大（dà）（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕（jué）對清潔的空間，用於拋光模具。灰塵、煙霧，頭皮屑和唾（tuò）液可能具有高精（jīng）度拋光表麵（miàn），可在工作數（shù）小時後獲得。

　　3、為了獲（huò）得機（jī）械拋光的基本程序，高質量的拋光效（xiào）果（guǒ），最重要的（de）是要有高（gāo）質量的拋光（guāng）工具和砂紙和研磨膏（gāo）等配件。最重要的是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決於先前加工（gōng）的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程如下。粗拋、銑削、電（diàn）火花、的（de）處理之後磨削表麵可（kě）以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超（chāo）聲波粉碎機旋轉。常見（jiàn）的方法是使用（yòng）直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火（huǒ）花層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作為潤（rùn）滑（huá）劑或冷卻劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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